1. Bekannte Vorrichtungen zum Trocknen und Sintern metallhaltiger Tinte auf einem Substrat weisen mehrere optische Strahler zur Bestrahlung des Substrats und einen Reflektor zur Reflexion von Strahlung auf das Substrat auf.

Des dispositifs connus pour sécher et fritter des encres à teneur métallique sur un substrat présentent plusieurs émetteurs optiques pour irradier le substrat et un réflecteur pour réfléchir le rayonnement sur le substrat.

2. Unter der Voraussetzung des Zusammenwirkens von Boden, UV-Strahlung und Substrat können mitHypericum perforatum L.

Sous réserve que jouent conjointement: terrain + radiations UV + substance, peut intervenir une intoxication dontHypericum perforatum L., est responsable.

3. Verfahren und vorrichtung zum abscheiden dünner schichten auf einem substrat in einer höhenverstellbaren prozesskammer

Procede et dispositif pour deposer de fines couches sur un substrat dans une chambre de traitement reglable en hauteur

4. Es ist vorgesehen, dass die elektrischen Verbindungen (20) jeweils eine am Substrat (12) angeordnete Kontaktfläche (17) aufweisen, die beim Zusammenfügen von Substrat (12) und Gehäuse (2) mit Gegenkontaktflächen (19) der Kontaktbahnen (21) in Gegenüberlage kommen.

Il est prévu que les connexions électriques (20) présentent dans chaque cas une surface de contact (17) disposée sur le substrat (12), lesdites surfaces de contact se trouvant en superposition antagoniste, lors de l'assemblage du substrat (12) et du boîtier (2).

5. 3C001Hetero-epitaxiale Werkstoffe aus einem „Substrat“, das mehrere Epitaxieschichten aus einem der folgenden Materialien enthält:

3C001Matériaux hétéro-épitaxiés consistant en un «substrat» comportant des couches multiples empilées obtenues par croissance épitaxiale:

6. Bei einem erfindungsgemäßen Verfahren zum selektiven anisotropen Entfernen mindestens eines Teils einer Silizium enthaltenden Schicht von einem siliziumhaltigen Substrat mit einer zwischen dem Substrat und der Siliziumschicht angeordneten und Praseodymoxid enthaltenden Zwischenschicht, bei dem ein aus einem Reaktionsgas unter elektrischer Wechselspannung gebildetes Plasma in einer Reaktionskammer mit dem Substrat in Berührung tritt enthält das Reaktionsgas SF6/Cl2.

L'invention concerne un procédé de décapage anisotrope sélectif d'au moins une partie d'une couche contenant du silicium sur un substrat contenant du silicium, comportant une couche intermédiaire contenant de l'oxyde de praséodyme entre le substrat et la couche de silicium, selon lequel un plasma formé à partir d'un gaz de réaction par l'intermédiaire d'une tension électrique alternative, entre en contact avec le substrat dans une chambre de réaction, ledit gaz de réaction contenant SF6/Cl2.

7. Ausgestaltung einer ecke einer in damaszener-technologie auf einem substrat hergestellten elektrischen leiterbahn aus insbesondere kupfer

Realisation d'un angle d'une piste conductrice electrique, en particulier en cuivre, produite par damasquinage sur un substrat

8. Durch Anlegen einer Spannung zwischen dem Schlicker (7) und dem Substrat (3) wird ein Materialniederschlag erzeugt.

Un dépôt de matériau est produit par application d'une tension électrique entre la barbotine (7) et le substrat (3).

9. Der Verdampfungsprozeß ist so abgestimmt, daß die Flüssigkeitströpfchen noch verdampfen, bevor sie das Substrat (2) erreichen.

Le processus de vaporisation est modulé de telle manière que les gouttelettes de liquide s'évaporent encore avant d'atteindre le substrat (2).

10. Um die Zugabe von Substrat zum Wühlen/Nestbau zu erleichtern, sollte der Boden im Liegebereich möglichst fest sein

Afin de faciliter l'installation d'un substrat propice au fouissement et à la préparation d'un nid, le sol de la zone de repos du compartiment devrait être plein

11. Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Identifizierung eines Protease- sekretionsdefizienten Stammes eines Mikroorganismus, wobei eine Mutante des Ciliaten zu einem Gel gegeben wird, inkubiert wird unter Bedingungen, unter denen die Mutante des Ciliaten Proteine sekretiert, die Mutante des Ciliaten vom Gel abgetrennt wird, wobei in dem Gel mindestens ein Substrat für mindestens eine Sekretionsprotease des Ciliaten enthalten ist und/oder das Gel selbst das Substrat ist und/oder das Substrat später zugesetzt wird und mindestens teilweise in das Gel hineindiffundiert, und die Proteaseaktivität auf das Substrat gemessen wird.

L'invention concerne un procédé pour identifier une souche déficiente en sécrétion de protéase dans un micro-organisme, selon lequel un mutant du cilié est ajouté à un gel et mis en incubation dans des conditions où le mutant du cilié secrète des protéines, puis le mutant du cilié est séparé du gel, le gel contenant au moins un substrat pour au moins une protéase de sécrétion du cilié et/ou le gel étant lui-même le substrat et/ou le substrat étant ajouté ultérieurement et se diffusant au moins partiellement dans le gel, et l'activité de la protéase sur le substrat étant alors mesurée.

12. Eine histologische Schicht wird von der Schnittfläche der Gewebeprobe mittels eines Mikrotoms abgetragen und auf ein Substrat aufgezogen.

Une couche histologique est prélevée sur la surface coupée de l'échantillon tissulaire au moyen d'un microtome puis est positionnée sur un substrat.

13. Chromogen und Substrat: Orthophenyl-diamin (OPD-Chromogen) in einer Endkonzentration von 0,4 mg/ml in sterilem destilliertem Wasser.

Chromogène et substrat: Orthophényle-diamine (chromogène OPD) dont la concentration finale est de 0,4 mg/ml dans de l'eau distillée/désionisée stérile.

14. a) durch Diffusions-, Implantations- oder Abscheidungsverfahren in oder auf einem einzelnen Halbleiter-Substrat, einem so genannten Chip, gebildet sind,

"Nappe" (1): faisceau (en général 12-120) de "brins" pratiquement parallèles.N.B.:

15. Sie bestehen aus einer Mikrophase, die auf dem Substrat mit Bimetall- und Isolationsstreifen verankert ist, deren thermomechanische Eigenschaften auf den Cantilever abgestimmt sind.

Ces transducteurs comportent une micro-étape ancrée à son substrat par des faisceaux bi-matériels et d'isolation qui ont été conçus pour correspondre d'un point de vue thermo-mécanique aux sondes de cantilever.

16. Jedes Molekül des Ölflecks ist ein Substrat (oder Rezeptor), der mit einem maßgeschneiderten Katalysator eine Verbindung eingeht, um ein Zwischenmolekül zu bilden.

Chaque molécule de la tache graisseuse est un substrat (ou récepteur), qui peut être associée à un catalyseur sur mesure pour former une molécule intermédiaire.

17. B. Spargel oder Ananas) oder bei Pilzen verwendet werden sollen, wo eine Fruchtfolge auf demselben Substrat nicht der üblichen landwirtschaftlichen Praxis entspricht.

Il n’est pas nécessaire d’effectuer des études sur les cultures en rotation en cas d’utilisation du produit phytopharmaceutique dans des cultures permanentes (comme celles des agrumes et des fruits à pépins), semi-permanentes (comme les asperges et les ananas) ou les champignons, lorsque les rotations sur le même substrat ne s’inscrivent pas dans le cadre des pratiques agricoles normales.

18. Die Art der Bindung hängt von dem Adsorbermolekül und dem Substrat ab, aber entsteht im Allgemeinen durch physikalische oder chemische Kräfte oder elektrostatische Anziehung.

Ce type de liaison dépend de la molécule adsorbée et du substrat, mais résulte en général de forces chimiques ou physiques, ou d'une attraction électrostatique.

19. Bei diesem Verfahren wird ein Schlicker (Suspension aus Wasser und Metall- oder Keramikpulver) über eine Hohlnadel (6) dem herzustellenden Substrat (3) zugeführt.

Selon ce procédé, une barbotine (suspension constituée d'eau et d'une poudre de métaux ou de céramique) est apportée par une aiguille creuse (6) sur le substrat (3) à former.

20. Wichtig ist, dass das Substrat immer leicht feucht bleibt (denken Sie an ihre natürlichen Lebensbedingungen : Cyclamen leben im Unterholz und nicht im Schwimmbecken!

Il est bon de vérifier que le substrat reste toujours légèrement humide (pensez aux conditions naturelles d'un cyclamen vivant en sous-bois et non en piscine !

21. Die Erfindung betrifft eine Dickdraht-Bondanordnung, mit einem Substrat (2), einem Dickdraht (1) und einer Hochstrom-Dickdrahtbondverbindung, bei der ein endseitiger Bondabschnitt (4) des Dickdrahtes (1), welcher sich zum Drahtende (7) des Dickdrahtes (1) hin erstreckt, auf das Substrat (2) gebondet ist, derart, dass im Bereich des Bondabschnitts (4) ein Bondkontakt (5) zwischen dem Dickdraht (1) und dem Substrat (2) gebildet ist, wobei der Dickdraht (1) einen Verjüngungsabschnitt (6) aufweist, welcher sich an das Drahtende (7) anschließt und in welchem sich der Drahtquerschnitt zum Drahtende (7) hin verjüngt.

Selon l'invention, une section de câblage côté extrémité (4) du fil épais (1) qui s'étend en direction de l'extrémité (7) du fil épais (1), est soudée sur le substrat (2) de manière que dans la région de ladite section de câblage (4) un contact de soudure (5) est formé entre le fil épais (1) et le substrat (2). Le fil épais (1) présente une section effilée (6) qui est raccordée à l'extrémité (7) du fil et dans laquelle la section transversale du fil est décroissante en direction de l'extrémité (7) du fil.

22. Ausgestaltung der Form einer in Damaszener-Technologie auf einem Substrat (S) hergestellten Leiterbahn mit abgeschrägten (4, 5) Ecken am Ort einer jeweiligen Umlenkung (3) der Leiterbahn.

L'invention concerne la réalisation de la forme d'une piste conductrice produite par damasquinage sur un substrat (S) et présentant des angles en biais (4, 5) au niveau de chaque changement de direction (3) de la piste conductrice.

23. Kolorimetrisches Verfahren auf Basis der Quantifizierung der gefärbten Fragmente, die durch die Einwirkung von Alpha-Amylase auf ein Substrat aus rot eingefärbter Stärke entstehen.

Méthode colorimétrique fondée sur la quantification des fragments colorés produits par l'action de l'alpha-amylase sur des substrats d'amidon rouge.

24. Ein optoelektronisches Bauelement (100) weist ein Substrat (102) auf, auf dem ein Halbleiterchip (104) und ein benetzbares Attraktor-Element (106a, 106b, 106c, 6d) angeordnet sind.

L'invention concerne un composant optoélectronique (100) présentant un substrat (102) sur lequel sont disposés une puce semiconductrice (104) et un élément attracteur mouillable (106a, 106b, 106c, 6d).

25. Die Erfindung betrifft einen selektiven Absorber zur Umwandlung des Sonnenlichtes in Wärme, der aus dünnen Schichten auf einem Substrat, vorzugsweise Aluminium, Kupfer oder Stahl, besteht.

L'invention concerne un absorbeur sélectif servant à transformer la lumière solaire en chaleur et comprenant de minces couches placées sur un substrat, de préférence en aluminium, cuivre ou acier.

26. Verfahren zur Gewinnung von Cellulosefasermaterial aus Calciumpektinat-haltigem, pflanzlichem Substrat, bei dem das pflanzliche Substrat unter Verwendung von Trinatriumphosphat aufgeschlossen und gegebenenfalls gebleicht wird, dadurch gekennzeichnet, daß das pflanzliche Substrat gleichzeitig mit Borax behandelt wird oder vor dem Aufschließen mit einer wäßrigen Boraxlösung vorbehandelt wird, wobei vorzugsweise Borax in einer Menge von 0,5 bis 10 g, insbesondere 1 bis 5 g und bevorzugt 3 g pro Liter Wasser vorhanden ist und die Temperatur der Lösung insbesondere 30 bis 60 °C, vorzugsweise 40 bis 50 °C und bevorzugter 45 °C beträgt.

Le volume de borax présent est compris de préférence entre 0,5 et 10 g, notamment entre 1 et 5 g et est de préférence de 3 g par litre d'eau, et la température de la solution est comprise notamment entre 30 et 60 °C, de préférence entre 40 et 50 °C, et s'élève de façon idéale à 45 °C.

27. In Bezug auf Korallen im Mittelmeer wurden bisher jedoch nur wenige Studien zur Erneuerung durchgeführt. Marmor wurde allerdings als äußerst geeignetes Substrat für die Korallenzucht erkannt.

Toutefois, peu d'études de restauration ont été menées sur les coraux méditerranéens, bien que le marbre soit un substrat très adéquat pour faire croître les coraux.

28. Wenn dann das Substrat entlastet werde, wölbten sich die relativ steifen Drähte auf, was zu "instabiler Faltenbildung" und in der Folge zur Bildung von Delaminationsblasen führe.

Lorsque la pression sur le substrat est libérée, les fils relativement rigides cèdent, ce qui conduit à l'«instabilité des froissures» et, par conséquent, à la formation de décollement sous forme de cloques.

29. Die gleichzeitige Anwendung von CELSENTRI zusammen mit Tenofovir (Substrat der renalen Elimination) und Cotrimoxazol (enthält Trimethoprim, einen renalen Kationentransport-Hemmer) zeigte jedoch keine Auswirkungen auf die Pharmakokinetik von Maraviroc

Cependant, une co-administration de CELSENTRI avec du ténofovir (substrat pour l élimination rénale) et du cotrimoxazole (contient du triméthoprime, un inhibiteur du système de transport cationique rénal), n a montré aucun effet sur la pharmacocinétique du maraviroc

30. Vorzugsweise werden zwei Gruppen von im Wechsel kammartig miteinander verzahnten Elektrodenbalken verwendet, die getrennt voneinander elektrisch leitend an ihren Enden miteinander verbunden und auf dem Substrat verankert sind.

De préférence, on utilise deux groupes de barres d'électrodes qui sont imbriquées en alternance les unes dans les autres à la manière d'un peigne, sont reliées au niveau de leurs extrémités, de manière à être électroconductrices, séparément les unes des autres, et sont ancrées sur le substrat.

31. Er findungs gemäß ist vorgesehen, dass die Folie (3) nach Beendigung des Prägevorgangs in mindestens zwei in Stempelrichtung (11) beabstandeten Strukturebenen (12, 13) auf dem Substrat (1) verbleibt.

L'invention est caractérisée en ce que le film demeure, après le processus d'estampage, sur le substrat (1), suivant au moins deux plans structuraux (12, 13), à distance entre eux dans le sens du poinçonnage (11).

32. Die Breite des Bereiches (11), in dem entschichtet wird, kann erfindungsgemäss dadurch eingestellt werden, dass von mehreren in einer Reihe nebeneinander angeordneten plasmaköpfen (10) oder aus einem Plasmakopf mit veränderlichem Querschnitt Plasma in der gewünschten Breite des Entschichtens auf das Substrat gerichtet wird, wobei der oder die Plasmaköpfe (10) gegenüber dem Substrat (4) entsprechend ausgerichtet werden und/oder die jeweils benötigte Anzahl von Plasmaköpfen (10) in Betrieb genommen wird.

Selon l'invention, on règle la largeur de la zone (11) dans laquelle on procède à l'enlevage de couche en dirigeant sur le substrat, sur la largeur désirée d'enlevage de couche, le plasma provenant de plusieurs têtes à plasma (10) placées côte à côte sur une rangée ou provenant d'une tête à plasma de section variable, la ou les têtes à plasma (10) étant orientées en conséquence par rapport au substrat (4) et/ou le nombre respectivement nécessaire de têtes à plasma (10) étant mis en oeuvre.

33. Folgende histochemische Untersuchungen wurden an gesunder Haut des Menschen durchgeführt: Xanthoproteinreaktion,Millon-Reaktion, Ninhydrinreaktion, Ninhydrin-Schiff-Reaktion, Diazokupplungsreaktion, Aminoxydasenachweis mit Tyramin, Tryptamin und Serotonin als Substrat, G-Nadi-Reaktion, Benzidinreaktion, Dopaoxydasereaktion, Tyrosinasereaktion.

Les investigations histochimiques suivantes furent faites sur la peau humaine normale: Réaction de la xanthoprotéine, deMillon, de la ninhydrine, du diazocouplage, démonstration des aminooxidases avec la thyramine, la tryptamine et la sérotonine,G-Nadi-réaction, réaction à la benzidine, la réaction de la dopaoxydase et de la tyrosinase.

34. Apparate zur Verwendung von zwei elektrisch geladenen Elektroden zur Bildung eines Lichtbogens, während ein Druckluftstrahlin den Bogen eingeführt wird, um die geschmolzenen Metalltröpfchen auf ein Substrat zur Bildung einer Beschichtung zu treiben

Appareil utilisant deux électrodes chargées électriquement pour former un arc électrique tandis qu'un flux d'air comprimé est introduit dans l'arc afin de propulser des gouttelettes de métal fondu sur un substrat pour former un revêtement

35. Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren bzw. eine Anlage zum Beschichten von Substraten mit mindestens einem Beschichtungsstoff, der zumindest eine organische Komponente umfasst, wobei der Beschichtungsstoff durch Zerstäuben und Aufspritzen auf dem Substrat aufgebracht wird.

L'invention concerne un procédé et une installation pour enduire des substrats d'au moins un matériau de revêtement contenant au moins un composant organique, le matériau de revêtement étant appliqué sur le substrat par atomisation et pulvérisation.

36. Es wurde die zudem die Leistung von Nicotinamidadenindinukleotid und Pyrrolochinolinchinon in der Brenstoffzelle optimiert, was den Elektronentransfer von der Elektrode an das Substrat sowie die Umwandlung von CO2 in Methanol während der kathodischen Reduktion vermittelte.

Ils ont aussi utilisé dans la pile à combustible du nicotinamide adénine dinucléotide et de la pyrroloquinoline quinone, pour faciliter le transfert des électrons entre l'électrode et le substrat, et la conversion de CO2 en méthanol par réduction à la cathode.

37. Es wird ein Mittel zum Verhindern von Verfärbungen und Vergrauungen beim Waschen von Textilien beschrieben, bei dem ein farbstoffbindendes Substrat auf Basis kationisierte Cellulose in Form von kationisierten Stapelfasern und/oder kationisierten Cordfädenabschnitten eingesetzt ist.

L'invention concerne un agent pour éviter les phénomènes de décoloration et grisaillement de textiles, selon lequel il est prévu d'utiliser un substrat fixant les colorants, à base de cellulose cationisée se présentant sous forme de fibres coupées cationisées et/ou de segments de fils pour corde cationisés.

38. Das Verfahren ist insbesondere geeignet für die Prozesskontrolle von Dünnschicht-Solarzellen, beispielsweise Chalkopyrit-Dünnschicht-Solarzellen, aber auch von anderen Bauelementen mit metallischen oder halbleitenden Schichten auf einem Substrat, die durch Trenngräben in einzelne nebeneinander liegende Abschnitte geteilt sind.

Le procédé convient en particulier pour le contrôle de processus de cellules solaires en couche mince, par exemple des cellules solaires en couche mince de chalcopyrite, mais également d'autres composants qui présentent sur un support des couches métalliques ou semi-conductrices qui sont divisées par creusement de sillons de séparation en parties distinctes situées les unes à côté des autres.

39. Um diese Probleme zu vermeiden, sollte die Futterzusammenstellung beispielsweise durch höheren Fasergehalt so verändert werden, dass das Sättigungsgefühl verstärkt wird, und gleichzeitig genügend Substrat, wie z. B. Stroh, zur Verfügung stehen, um dem Futtertrieb der Tiere gerecht zu werden.

Pour éviter de tels problèmes, il est important de modifier l'alimentation afin d'augmenter l'impression de satiété, par exemple grâce à un complément de fibres dans la nourriture et à une litière adaptée au fouissement — par exemple de la paille.

40. Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur mindestens zweistufigen Beschichtung eines elektrisch leitfähigen Substrats, wobei die mindestens zweistufige Beschichtung in einem einzigen Tauchlackbad durchgeführt wird und wobei das Tauchlackbad eine Beschichtungsmittelzusammensetzung enthält, die mindestens ein kathodisch abscheidbares filmbildendes Polymer sowie eine anodisch abscheidbare Komponente umfasst, wobei die anodisch abscheidbare Komponente Anionen mindestens einer Sauerstoffsäure des Phosphors enthält, und wobei in einer ersten Stufe das zu beschichtende elektrisch leitfähige Substrat in besagtem Tauchlackbad als Anode geschaltet wird und in einer nachfolgenden Stufe das nunmehr vorbeschichtete Substrat in besagtem Tauchlackbad als Kathode geschaltet wird.

La présente invention concerne un procédé de revêtement en au moins deux étapes d'un substrat électriquement conducteur, le revêtement en au moins deux étapes étant réalisé dans un bain de revêtement par immersion unique et le bain de revêtement par immersion contenant une composition d'agent de revêtement qui comporte au moins un polymère filmogène obtenu par dépôt cathodique et un constituant déposable par anodisation, le constituant déposable par anodisation contenant des anions d'au moins un oxacide du phosphore et, dans une première étape, le substrat électriquement conducteur à revêtir étant mis en mode anode dans ledit bain de revêtement par immersion et, lors d'une étape suivante, le substrat maintenant pré-revêtu étant mis en mode cathode dans ledit bain de revêtement par immersion.

41. e) Schlickerbeschichten (Aufbringen von Schichten durch Aufschlämmen) ist ein Verfahren zur Herstellung von oberflächenverändernden Schichten oder Auflageschichten, bei dem ein Metall- oder Keramikpulver zusammen mit einem organischen Binder in einer Flüssigkeit suspendiert und durch Aufspritzen, Tauchen oder Aufpinseln auf ein Substrat aufgebracht wird.

e. Le dépôt de barbotine est un procédé de revêtement par modification de surface ou revêtement par recouvrement par lequel une poudre de métal ou de céramique, associée à un liant organique et en suspension dans un liquide, est appliquée à un substrat par pulvérisation, trempage ou étalement.

42. Plasmaspritzen ist ein Verfahren zur Herstellung von Auflageschichten, wobei mit einer Plasmaspritzpistole, die ein Plasma erzeugt und regelt, Spritzwerkstoffe in Pulver- oder Drahtform aufgenommen, aufgeschmolzen und auf die Oberfläche des Substrats geschleudert werden. Dabei entsteht auf dem Substrat eine homogene, gut haftende Schicht.

La projection de plasma est un procédé de revêtement (par recouvrement) par lequel un canon (chalumeau ou torche à plasma) produisant et contrôlant un plasma reçoit des matériaux de revêtement sous forme de poudre ou de fil, les fait fondre et les projette sur un substrat où se forme ainsi un revêtement intégralement adhérent.

43. Das Substrat und das Pulvergemisch befinden sich in einer Retorte, die auf eine Temperatur zwischen 1 030 K (757 °C) und 1 375 K (1102 °C) erhitzt wird, wobei die Haltezeit ausreichend bemessen sein muss, um die Beschichtung abzuscheiden.

Le substrat et le mélange de poudres sont placés dans une cornue qui est portée à une température comprise entre 1 030 K (757 °C) et 1 375 K (1 102 °C) pendant un temps suffisant pour permettre le dépôt du revêtement.

44. Die Erfindung betrifft ein CVD-Verfahren zum Abscheiden mindestens III-V-N-Schicht bzw. mindestens einer III-N-Schicht auf einem Substrat mit einer von der Zusammensetzung der Schicht abweichenden Zusammensetzung, wobei die kristallographischen Eigenschaften des Substrates zumindestens im Bereich der zu beschichtenden Oberfläche so gewählt sind, dass die Schicht oder eine die Schicht unterliegende Pufferschicht unmittelbar darauf abscheidbar ist; weiter ist vorgesehen, dass das Substrat aus einem mechanischen Träger und einer darauf aufgebrachten Keimplatte besteht, und dass die Keimplatte vom Träger trennbar ist.

L'invention concerne un procédé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) pour déposer au moins une couche III-V-N ou au moins une couche III-N sur un substrat dont la composition diffère de celle de la couche. Les propriétés cristallographiques du substrat, au moins dans la zone de la surface à enduire, sont sélectionnées de telle sorte que la couche ou une couche tampon sous-jacente peut être déposée directement sur cette zone.

45. Colorimetrisches Verfahren, beruhend auf der Reaktion von Vanadomolybdat mit anorganischem Phosphat, das aus der Wirkung von 6-Phytase auf ein phytathaltiges Substrat (Natriumphytat) bei einem pH-Wert von 5,5 und 37 °C entsteht, quantifiziert anhand einer Standardkurve für anorganisches Phosphat.

Méthode colorimétrique fondée sur la réaction du vanado-molybdate sur le phosphate inorganique produit par réaction de la 6-phytase sur un substrat contenant du phytate (phytate de sodium) à pH 5,5 et à 37 °C, quantifié selon une courbe standard de phosphate inorganique.

46. Das Substrat und das Pulvergemisch befinden sich in einer Retorte, die auf eine Temperatur zwischen 1 030 K (757 °C) und 1 375 K (1 102 °C) erhitzt wird, wobei die Haltezeit ausreichend bemessen sein muss, um die Beschichtung abzuscheiden.

Le substrat et le mélange de poudres sont placés dans une cornue qui est portée à une température comprise entre 1 030 K (757 °C) et 1 375 K (1 102 °C) pendant un temps suffisant pour permettre le dépôt du revêtement.

47. Schlickerbeschichten (Aufbringen von Schichten durch Aufschlämmen) ist ein Verfahren zur Herstellung von oberflächenverändernden Schichten oder Auflageschichten, bei dem ein Metall- oder Keramikpulver zusammen mit einem organischen Binder in einer Flüssigkeit suspendiert und durch Aufspritzen, Tauchen oder Aufpinseln auf ein Substrat aufgebracht wird.

Le dépôt de barbotine est un procédé de revêtement par modification de surface ou revêtement par recouvrement par lequel une poudre de métal ou de céramique, associée à un liant organique et en suspension dans un liquide, est appliquée à un substrat par pulvérisation, trempage ou étalement. L'ensemble est ensuite séché à l'air ou dans un four puis soumis à un traitement thermique afin d'obtenir le revêtement voulu.

48. Insbesondere ist durch die Erfindung auch eine kostenintensive und technologisch aufwendige Lotdepoterzeugung auf dem Substrat nicht mehr notwendig, was im Falle einer SMD-Flip-Chip-Mischbestückung den weiteren Vorteil hat, daß der bisher notwendige Prozeßschritt der Planarisierung der Substratlothöcker eingespart werden kann.

En particulier, l'invention permet d'éviter de recourir à des procédés dépôt de brasure, coûteux et d'une technologie compliquée, sur le substrat, ce qui, dans le cas d'un garnissage mixte SMD-flip-chip, présente l'avantage supplémentaire de supprimer l'etape de planage de la bosse requise jusqu'à présent.

49. Durch die Erwärmung der Randschicht des Substrats und des Slurrys während des Randschichtglühens findet an der Oberfläche des Substrats (1) eine exotherme Reaktion zwischen dem Aluminium und dem Substratmetall (Eisen bzw. Nickel) statt, wodurch Aluminidphasen ausgebildet werden, die eine Aluminid-Diffusionsschicht (4) auf dem Substrat (1) bilden.

Le réchauffement de la couche marginale du substrat et de la suspension épaisse pendant le recuit de la couche marginale induit une réaction exothermique à la surface du substrat (1) entre l'aluminium et le métal du substrat (fer et/ou nickel), avec pour effet la formation de phases aluminure qui forment une couche de diffusion d'aluminure (4) sur le substrat (1).

50. Ein Meßgerät zur Vermessung von Strukturen (9) auf einem transparenten Substrat (8), mit einer Auflicht-Beleuchtungseinrichtung (10, 13), einer Abbildungs-Einrichtung (10) und einer Detektor-Einrichtung (14) für die abgebildeten Strukturen (9) und einem senkrecht und relativ zur optischen Achse (11) der Abbildungs-Einrichtung (10) interferometrisch (7) meßbar verschiebbaren Meßtisch (4) zur Aufnahme des Substrats (8) zeichnet sich dadurch aus, daß der Meßtisch (4) als offener Rahmen mit einem Aufnahmerand für das Substrat (8) ausgebildet ist und unter dem Meßtisch (4) eine Durchlicht-Beleuchtungseinrichtung (15, 16) vorgesehen ist, deren optische Achse mit der der Auflicht-Beleuchtungseinrichtung (10, 13) fluchtet.

L'invention concerne un appareil de mesure destiné à la mesure de structures (9) sur un substrat transparent (8), comprenant un dispositif à éclairage incident (10, 13), un dispositif de représentation d'image (10) et un dispositif détecteur (14) pour les structures représentées (9), ainsi qu'une table de mesure destinée au positionnement du substrat (8), déplaçable perpendiculairement, de façon mesurable par interférométrie (7), par rapport à l'axe optique (11) du dispositif de représentation (10), caractérisé en ce que la table de mesure (4) est réalisée sous la forme d'un cadre ouvert ayant un bord de positionnement pour le substrat (8), et en ce qu'il est prévu, sous la table de mesure (4), un dispositif d'éclairage par transmission (15, 16) dont l'axe optique affleure le dispositif à éclairage incident (10, 13).

51. Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf die Herstellung von Υ-Cäsium-Zinn-Iodid aus einer Cäsium-Zinn-Iodid-Lösung, wobei das Lösungsmittel abgedampft und das Cäsium-Zinn-Iodid anschließend thermisch behandelt wird, sowie auf einen lösungsmittelbasierten Auftrag von Υ-Cäsium-Zinn-Iodid, Cs1-xAxB1-yCyI3, Bi1-xMI3-yXy oder Bismuthiodid auf ein Substrat und die Verwendung als Halbleitermaterial in Transistorstrukturen, wobei eine CsSnI3-Lösung, eine Cs1-xAxB1-yCyI3-zXz-Lösung, eine Bi1-xMxI3-yXy-Lösung oder eine BiI3-Lösung auf ein Substrat mit Hilfe von Drucktechniken aufgebracht wird, wobei unter Verwendung von einer CsSnI3-Lösung der Auftrag unter inerter Atmosphäre und/oder Vakuum durchgeführt wird.

Elle concerne également l'application, à l'aide d'un solvant, d'iodure de césium-étain de phase γ, de Cs1-xAxB1-yCyI3, de Bi1-xMI3-yXy ou d'iodure de bismuth sur un substrat et leur utilisation comme semi-conducteur dans des structures de transistors. Une solution de CsSnI3, une solution de Cs1-xAxB1-yCyI3-zXz, une solution de Bi1-xMxI3-yXy ou une solution de BiI3 étant déposée sur un substrat au moyen de techniques d'impression.

52. 100 μl Chromogen-/Substratlösung, d. h. 1 ml ABTS (2,2′-Azino-bis-[3-Ethylbenzothiazolin-6-Sulfonsäure]) 5 mg/ml + 9 ml Substrat-Puffer (0,1 M Citrat-Phosphat-Puffer mit pH 4 und einem Gehalt an 0,03 % H2O2, in jede Vertiefung geben und für 10 Minuten bei Raumtemperatur inkubieren.

Ajouter 100 μl par puits de la solution suivante de chromogène/substrat: 1 ml de ABTS (2,2-azino-bis-[3-éthylbenzothiazoline-6-acide sulphonique]) à 5 mg/ml + 9 ml de tampon de substrat (0,1 M de tampon de phosphate-citrate de pH 4 contenant 0,03 % de H2O2), puis incuber pendant dix minutes à température ambiante.

53. Zur besseren Kontaktierung von Elektroden (5) der aktiven Struktur (27) werden Leiterbahnbrücken (34) ausgebildet, in dem in eine Deckschicht (13) eines ersten Schichtverbunds (10), der zudem ein Substrat (11) und eine Isolationsschicht (12) aufweist, erste und zweite Vertiefungen (14, 15) mit einer ersten und zweiten voneinander verschiedenen Ätztiefe (D1, D2) geätzt werden.

En vue d'obtenir un meilleur mode de contact des électrodes (5) de la structure active (27), l'invention est caractérisée en ce qu'on forme des ponts de bandes conductrices (34), par attaque produisant des premiers et des seconds creux (14, 15) de profondeurs d'enlevage différentes (D1, D2) dans une couche de recouvrement (13) d'un premier composite stratifié (10) qui présente en outre un substrat (11) et une couche d'isolation (12).

54. Die Erfindung betrifft ein Element mit elektrisch einstellbarer Oberflächenmissivität für Infrarotstrahlung der Wellenlänge 1 $g(m)m bis 30 $g(m)m, mit folgendem Schichtaufbau: vorderes, IR-transparentes Substrat (6); Funktionsschicht (5), deren Reflektivität für IR-Strahlung durch Einlagerung von Wasserstoff geändert werden kann; wasserfreie, IR-absorptive Protonenleiterschicht (4); Wasserstoffspeicherschicht (3); Elektrodenschicht (2).

Elément à émissivité de surface électriquement réglable pour le rayonnement infrarouge de la longueur d'onde comprise entre 1 $g(m)m et 30 $g(m)m, qui présente une structure en couches composée d'un substrat avant (6) transparent au rayonnement infrarouge, d'une couche fonctionnelle (5) dont la réflectivité pour le rayonnement infrarouge peut être modifiée par l'introduction d'hydrogène, d'une couche (4) de conduction protonique exempte d'eau et absorbant le rayonnement infrarouge, d'une couche (3) d'emmagasinage d'hydrogène et d'une couche électrode (2).

55. Bei einem verbesserten Verfahren zur Herstellung von farbigen nativen oder synthetischen Substraten werden folgende Schritte vorgenommen: (a) Zusammengeben des Substrates mit einer reaktiven Kupplungskomponente, (b) Fixierung der Kupplungskomponente auf dem Substrat durch Ausbildung einer chemischen Bindung, (c) Entfernung nicht fixierter und hydrolysierter Kupplungskomponente, (d) Umsetzung der fixierten Umsetzungskomponente mit einem zur Azofarbstoffbildung geeigneten Diazoniumsalz, (e) Entfernung überschüssiger Diazoniumkomponente.

L'invention concerne un procédé perfectionné de fabrication de substrats naturels ou synthétiques colorés, procédé caractérisé en ce qu'on effectue les opérations ci-après: (a) on met en contact le substrat avec un composé de copulation capable de réagir, (b) on fixe le composé de copulation sur le substrat par formation d'une liaison chimique, (c) on élimine le composé de copulation non fixé et hydrolysé, (d) on fait réagir le produit réactionnel fixé avec un sel de diazonium approprié pour la formation d'un colorant azoïque, (e) on élimine le composé diazonium en excès.

56. Es wird ein Verfahren zum Transport von Substraten in Substratbehandlungsanlagen (1) vorgeschlagen, bei dem ein Substrat mittels einer Transporteinrichtung (2) in der Substratbehandlungsanlage (1) bewegt wird, wobei die Transporteinrichtung (2) durch eine Antriebseinrichtung (3) mit einem Antriebsmittel (34) und einem Zugmittel (31) angetrieben wird, wobei während des Betriebs des Antriebs- mittels (34) zumindest das Leertrum (32) des Zugmittels (31) gespannt wird.

L'invention concerne un procédé de transport de substrats dans des installations de traitement de substrat (1), selon lequel un substrat est déplacé au moyen d'un dispositif de transport (2) dans l'installation de traitement de substrat (1), le dispositif de transport (2) étant entraîné par un dispositif d'entraînement (3) comportant un moyen d'entraînement (34) et un moyen de traction (31), au moins un brin vide (32) du moyen de traction (31) étant tendu pendant le fonctionnement du moyen d'entraînement (34).

57. Die Erfindung betrifft einen Datenträger, insbesondere ein Wertdokument, wie eine Banknote, Ausweiskarte und dergleichen, mit einem Substrat (20), in dem durch eine Kurvenschar aus einer Mehrzahl von gekrümmten und/ oder divergierenden Schnittlinien (22) ein Merkmalsbereich (12) gebildet ist, wobei innerhalb des Merkmalsbereichs (12) eine visuell und/ oder maschinell erfassbare Kennzeichnung (30) in Form eines Musters, von Zeichen oder einer Codierung angeordnet ist.

L'invention concerne un support de données, en particulier un document de valeur, par exemple un billet de banque, un document d'identité et similaire, comprenant un substrat (20), dans lequel une zone caractéristique (12) est formée à partir un ensemble de courbes constitué d'une pluralité de lignes de découpe (22) curvilignes et/ou divergentes, un signe distinctif (30), pouvant être détecté visuellement et/ou par machine, se présentant sous la forme d'un motif, de signes ou d'un codage étant disposé à l'intérieur de ladite zone caractéristique (12).

58. Das Verfahren weist dabei die folgenden Schritte auf: Bereitstellen eines Germanium-Substrates (1); Ausbilden einer porösen Schicht (3) an einer Oberfläche des Germanium-Substrates (1) durch elektrochemisches Ätzen des Germanium-Substrates (1) in einer Ätzlösung (7); Abscheiden einer Halbleiterdünnschicht (5) auf der porösen Schicht (3); und Abtrennen der Halbleiterdünnschicht (5) von dem Germanium-Substrat (1), wobei die poröse Schicht (3) als Sollbruchstelle dient.

Le procédé de l'invention comprend les étapes consistant à: créer un substrat en germanium (1); former une couche poreuse (3) à la surface du substrat en germanium (1) par gravure électrochimique du substrat en germanium (1) dans une solution d'attaque (7); séparer une couche mince semi-conductrice (5) sur la couche poreuse (3); et séparer ladite couche (5) du substrat en germanium (1), la couche poreuse (3) servant de point de rupture.

59. Die Erfindung betrifft ein Schneidwerkzeug mit einem Substrat aus Hartmetall, Cermet, Stahl oder Schnellarbeitsstahl (HSS) und einer darauf im PVD-Verfahren abgeschiedenen mehrlagigen Beschichtung, welche eine Basislage aus einer oder mehreren übereinander angeordneten gleichen oder verschiedenen Schichten aus einem Nitrid oder Carbonitrid, welches wenigstens Aluminium (AI) und optional ein oder mehrere weitere Metalle, ausgewählt unter AI, Cr, Si, Y, Ru und Mo, enthält, und eine chromhaltige, oxidische Funktionslage umfasst.

L'invention concerne un outil de coupe comprenant un substrat en métal dur, cermet, acier ou acier rapide (HSS) et un revêtement multicouche déposé sur ce substrat par un procédé de dépôt physique en phase vapeur, lequel revêtement comprend une couche de base constituée d'une ou de plusieurs couches identiques ou différentes superposées à base d'un nitrure ou d'un carbonitrure, contenant au moins de l'aluminium (Al) et éventuellement un ou plusieurs autres métaux choisis parmi Al, Cr, Si, Y, Ru et Mo, ainsi qu'une couche fonctionnelle oxydique contenant du chrome.

60. Die Erfindung bezieht sich auf ein Übernahme- und Haltesystem für ein Substrat (17) in einer Belichtungsanlage, die mit einem Handlingsystem zur Zuführung des Substrates (17), mit einer in den Koordinaten X,Y verfahrbaren elektrostatischen Chuckanordnung (1) zum Halten des Substrates (17) während der Belichtung sowie mit einer Belichtungsoptik ausgestattet ist, aus der eine Korpuskularstrahlung rechtwinklig, der Koordinate Z entsprechend, auf die Substratoberfläche gerichtet ist.

L'invention concerne un dispositif de réception et de positionnement d'un substrat (17) dans un système de sensibilisation équipé de moyens de manipulation pour l'amenée d'un substrat (17), d'un dispositif à mandrin électrostatique (1) destiné au positionnement du substrat (17) pendant la sensibilisation, ainsi que d'une optique de sensibilisation à partir de laquelle un rayonnement corpusculaire est orienté perpendiculairement, suivant la coordonnée Z, à la surface du substrat.

61. Mehrschichtiger Überzug enthaltend wenigstens eine Basislackschicht und eine Decklackschicht wobei er herstellbar ist, indem: (A) eine Komponente (I) enthaltend Bindemittel, die gegebenenfalls strahlenhärtbar sind, auf der Basis von Polyurethanharzen, Polyacrylatharzen, Polyesterharzen und/oder Aminoplastharzen sowie deren Mischungen auf ein Substrat aufgetragen, bei Temperaturen von unter 100 °C, vorzugsweise 60-80 °C einer thermischen Teilvernetzung oder Trocknung unterworfen; und (B) auf diese Lackschicht ein Decklack aufgetragen und anschließend eine Strahlenhärtung durchgeführt wird.

Le procédé de production de ce revêtement consiste à A. appliquer sur un substrat un composant (I) contenant des liants éventuellement durcissables sous rayonnement, à base de résines de polyuréthanne, de résines de polyacrylate, de résines de polyester et/ou de résines d'aminoplastes ainsi que de leurs mélanges, et à le soumettre à une réticulation partielle thermique ou à un séchage à des températures inférieures à 100 °C, de préférence 60 à 80 °C.

62. Metall-Keramik-Substrat mit einem mehrschichtigen, plattenförmigen Keramikmaterial und mit wenigstens einer an einer Oberflächenseite des Keramikmaterials vorgesehenen Metallisierung, die mit dem Keramikmaterial durch Directbonden (DCB-Verfahren) oder Aktivlöten verbunden ist, wobei das Keramikmaterial aus wenigstens einer inneren Schicht oder Basisschicht aus einer Siliziumnitrid-Keramik besteht, und wobei die mit der wenigstens einen Metallisierung versehene Oberflächenseite des Keramikmaterials von einer auf die wenigstens eine Basisschicht aufgebrachten Zwischenschicht aus einer oxidischen Keramik gebildet ist.

L'invention concerne un substrat métal-céramique qui comprend un matériau céramique multicouche en forme de plaque et au moins une métallisation prévue sur un côté de surface du matériau céramique, qui est reliée par une liaison directe (procédé DCB) ou un brasage actif avec le matériau céramique, le matériau céramique étant constitué d'au moins une couche intérieure ou couche de base en une céramique de nitrure de silicium, et le côté de surface du matériau céramique muni de la ou des métallisations étant formé par une couche intermédiaire en une céramique oxydique appliquée sur la ou les couches de base.

63. Die vorliegende Erfindung betrifft eine rekombinante Wirtszelle, die mindestens ein Nukleinsäuremolekül enthält, welches ein Polypeptid kodiert, das eine Substrat-Produkt Umwandlung katalysiert, die aus den folgenden zwei Reaktion ausgewählt ist: Acetaldehyd + Coenzym A + NAD+ zu Acetyl- Coenzym A + NADHH-H+ und/oder Pyruvat + Coenzym A zu Acetyl- Coenzym A + Formiat, wobei zumindest ein DNA-Molekül heterolog zu der besagten Wirtszelle ist und wobei die besagte Wirtszelle eine gesteigerte Acetyl-Coenzym A Produktion aufweist.

L'invention concerne une cellule hôte recombinante qui contient au moins une molécule d'acide nucléique, qui code un polypeptide qui catalyse une transformation en substrat-produit qui est sélectionnée parmi les deux réactions suivantes : acétaldéhyde + coenzyme A + NAD+ en acétyl-coenzyme A + NADHH-H+, et ou pyruvate + coenzyme A en acétyl-coenzyme A + formiate; sachant qu'au moins une molécule d'ADN est hétérologue de ladite cellule hôte et sachant que ladite cellule hôte présente une production accrue d'acétyl-coenzyme A.

64. Die Erfindung betrifft eine Verfahren zur Herstellung eines Sicherheits- und/oder Wertprodukts, insbesondere eines Sicherheits- und/oder Wertdokuments, mit den folgenden Verfahrensschritten: a) ein Substrat wird mit einer eine Lumineszenzsubstanz enthaltenden Markierungsschicht (1) beschichtet, b) eine Mehrzahl von Teilbereichen (2a, 2b, 2c) der Markierungsschicht wird, ein definiertes und für das Sicherheits- und/oder Wertprodukt individuelles Muster bildend, mit der Maßgabe verändert, dass die Lumineszenzemission der Lumineszenzsubstanz in den Teilbereichen verstärkt oder abgeschwächt wird, c) dem in der Stufe b) erzeugten Muster wird eine Zeichenfolge in vorzugsweise eineindeutiger Weise zugeordnet, d) die in Stufe c) zugeordnete Zeichenfolge wird auf dem Sicherheits- und/oder Wertprodukt als Identzeichenfolge lesbar appliziert und/oder hierin lesbar integriert.

L'invention concerne un procédé de fabrication d'un produit de sécurité et/ou de valeur, en particulier d'un document de sécurité et/ou de valeur, ce procédé comprenant les étapes suivantes : a) un substrat est recouvert d'une couche de marquage contenant une substance luminescente; b) une pluralité de régions de la couche de marquage est modifiée, de manière à former un motif défini individuel pour le produit de sécurité et/ou de valeur, de telle sorte que l'émission de luminescence de la substance luminescente soit amplifiée ou réduite dans lesdites régions; c) une chaîne de caractères est associée au motif créé à l'étape b), de préférence de manière biunivoque; d) la chaîne de caractères associée lors de l'étape c) est appliquée de manière lisible sur le produit de sécurité et/ou de valeur et/ou intégrée de manière lisible dans celui-ci comme chaîne de caractères d'identification.