1. It is used as a basic solvent in the development of acidic photoresist in the photolithography process, and is highly effective in stripping photoresist.

Nó được sử dụng như một dung môi cơ bản trong sự phát triển của quang khắc axit trong quá trình photolithography, và có hiệu quả cao trong việc tẩy quang khắc.