1. High-frequency-operated magnetron glow discharge ionisation process and ion source

Procede d'ionisation par decharge lumineuse de magnetron haute frequence et source d'ions

2. An electrically conductive surface (9) is deposited onto a nonconductive underlay (1) by a method where a metal is evaporated under a vacuum - sputtering, magnetron sputtering, radiofrequency sputtering, diode plasma sputtering, cathodic arc evaporation, ion plating, ionization-assisted evaporation, ion implantation or laser alloying.

Une surface électriquement conductrice (9) est déposée sur un support non conducteur (1) grâce à un procédé dans lequel le métal est évaporé par pulvérisation cathodique sous vide, pulvérisation cathodique à magnétron, pulvérisation cathodique à radiofréquence, pulvérisation cathodique à plasma diode, évaporation à arc cathodique, placage ionique, évaporation assistée par ionisation, implantation ionique ou alliage laser.

3. The invention refers to a method for the fabrication of a thin film acoustic reflector stack with alternating layers of a first and a second material having different acoustic characteristic impedances, wherein the layers are deposited alternately by a reactive pulsed dc magnetron sputtering process.

L'invention concerne un procédé de fabrication d'une pile de réflecteurs acoustiques à film mince à couches alternées d'un premier et d'un second matériaux présentant des impédances acoustiques caractéristiques différentes, lesdites couches étant déposées en alternance par un processus réactif de pulvérisation de magnétron à courant continu pulsé.