1. 본 발명에 따른 복수개의 기판을 동시에 기판처리할 수 있는 배치식 기판처리 장치(1)는, 복수개의 기판(10)에 대하여 기판처리 공간을 제공하는 챔버(20); 복수개의 기판(10)이 로딩되어 지지되는 보트(30); 기판(10)의 적층 방향을 따라 일정 간격을 가지면서 배치되는 복수개의 히터(70); 및 챔버(20)의 내부 일측에 설치되는 가스관 베이스(300) - 가스관 베이스(300)에는 가스 공급관(100) 및 가스 배기관(200)이 연결됨 -; 를 포함하는 것을 특징으로 한다.